Nitrogen Trifluoride (NF3) Gas Ketulenan Tinggi
Maklumat Asas
| CAS | 7783-54-2 |
| EC | 232-007-1 |
| UN | 2451 |
Apakah bahan ini?
Nitrogen trifluorida (NF3) ialah gas tidak berwarna dan tidak berbau pada suhu bilik dan tekanan atmosfera. Ia boleh dicairkan di bawah tekanan sederhana. NF3 adalah stabil dalam keadaan biasa dan tidak mudah terurai. Walau bagaimanapun, ia boleh terurai apabila terdedah kepada suhu tinggi atau dengan kehadiran pemangkin tertentu. NF3 mempunyai potensi pemanasan global (GWP) yang tinggi apabila dilepaskan ke atmosfera.
Di mana untuk menggunakan bahan ini?
Ejen pembersih dalam industri elektronik: NF3 digunakan secara meluas sebagai agen pembersih untuk membuang sisa bahan cemar, seperti oksida, daripada permukaan semikonduktor, panel paparan plasma (PDP) dan komponen elektronik lain. Ia boleh membersihkan permukaan ini dengan berkesan tanpa merosakkannya.
Gas etsa dalam fabrikasi semikonduktor: NF3 digunakan sebagai gas etsa dalam proses pembuatan semikonduktor. Ia amat berkesan dalam mengetsa silikon dioksida (SiO2) dan silikon nitrida (Si3N4), yang merupakan bahan biasa digunakan dalam fabrikasi litar bersepadu.
Pengeluaran sebatian fluorin ketulenan tinggi: NF3 ialah sumber fluorin yang berharga untuk penghasilan pelbagai sebatian yang mengandungi fluorin. Ia digunakan sebagai prekursor dalam pengeluaran fluoropolimer, fluorokarbon, dan bahan kimia khusus.
Penjanaan plasma dalam pembuatan paparan panel rata: NF3 digunakan bersama-sama dengan gas lain untuk mencipta plasma dalam pengeluaran paparan panel rata, seperti paparan kristal cecair (LCD) dan PDP. Plasma adalah penting dalam proses pemendapan dan goresan semasa fabrikasi panel.
Ambil perhatian bahawa aplikasi dan peraturan khusus untuk penggunaan bahan/produk ini mungkin berbeza mengikut negara, industri dan tujuan. Sentiasa ikut garis panduan keselamatan dan berunding dengan pakar sebelum menggunakan bahan/produk ini dalam sebarang aplikasi.
